靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。氧化鈮靶材又是什么呢？
氧化鈮由于其獨(dú)特的物理和化學(xué)性質(zhì)而被廣泛地應(yīng)用于現(xiàn)代技術(shù)的許多領(lǐng)域。利用其較強(qiáng)的紫外吸收能力，可用作紫外敏感材料的保護(hù)膜；利用其薄膜折射率較高的特性，與SiO2等配合可制備具有不同折射率的薄膜。由于氧化鈮具有以上的特點(diǎn)而被用于光學(xué)薄膜干涉濾波器和氣體傳感器等；通過磁控濺射法制備等離子顯示器彩色濾光膜，用來提高等離子顯示器的亮度和可視角度，是等離子顯示器重要的鍍膜材料之一。制備氧化鈮薄膜的方法還有電子束蒸發(fā)、離子束反應(yīng)濺射法、溶膠凝膠法和磁控濺射法等。不同的沉積方法和制備過程參數(shù)對(duì)制備薄膜的結(jié)構(gòu)形貌和光學(xué)質(zhì)量等有很大的影響。旋轉(zhuǎn)靶材相對(duì)于平面靶材具有很多的優(yōu)點(diǎn)，I)利用率高(70%以上)，甚至可以達(dá)到90%;2)濺射速度快，為平面靶的2-3倍；3)有效地減少打弧和表面掉渣，工藝穩(wěn)定性好
坐寸ο對(duì)于旋轉(zhuǎn)鍍膜靶材，要求旋轉(zhuǎn)靶`材為單根整體，或分段焊接在同一襯管上。以目前技術(shù)條件，旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法主要包括熱等靜壓法、熱壓燒結(jié)法和澆鑄法，以上工藝各有優(yōu)缺點(diǎn)，但是對(duì)不同尺寸的靈活控制難以滿足，尤其是熱壓燒結(jié)法只能生產(chǎn)長度為300mm以內(nèi)的單支靶材，因此只能通過多節(jié)分段焊接固定在襯管上以達(dá)到一定的長度要求，這樣增加了生產(chǎn)的步驟,提高了靶材生產(chǎn)的成本。等離子噴涂旋轉(zhuǎn)靶材，是將金屬或非金屬噴涂粉在等離子焰流中加熱到熔化或半熔化狀態(tài)，并隨同等離子焰流，以高速噴射并沉積到預(yù)先經(jīng)過處理過的工件表面上，隨著往復(fù)持續(xù)的噴涂，可以得到一定厚度的靶材。由于等離子噴涂溫度高，幾乎可以噴涂所有難熔金屬及陶瓷粉末；并且噴涂過程為一次成型，噴涂靶材的尺寸不受限制，步驟簡單，方便靈活。專利文獻(xiàn)CN101723681A介紹了利用等離子噴涂工藝制備大面積陶瓷板(Al2O3,Cr2O3, TiO2, Al2O3-TiO2, Al2O3-SiO2, ZrO2, MoSi2)的方法；專利文獻(xiàn) CN101460652A 描述了利用等離子噴涂的方法制備了含有15摩爾％ -60摩爾％ Nb2O5的TiO2旋轉(zhuǎn)靶；專利文獻(xiàn)CN102021515A介紹了利用常壓等離子噴涂技術(shù)制備了不同配比的Al-Si靶材。但都未涉及到利用等離子噴涂的方法制備氧化鈮旋轉(zhuǎn)靶材。
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